特長
- Gen IVテクノロジー
- JEDEC認定のGaN技術
- 動的RDS(on)eff生産テスト済み
- ロバスト設計、以下によって定義されます。
- 広いゲート安全マージン
- 過渡過電圧機能
- 非常に低いQRR
- クロスオーバー損失の低減
- RoHS準拠およびハロゲンフリーのパッケージ
- ハードスイッチ回路とソフトスイッチ回路の両方で効率を向上- 電力密度の向上
- システムのサイズと重量の低減
- 全体的なシステムコストの削減
 
- 一般的に使用されるゲートドライバーで運転が簡単
- 性能向上のためのケルビンソース
- 高Vtのeモードによるピン間ドロップインにより、ノイズ耐性を向上
説明
TP65H050G4QS 650V 50mΩ窒化ガリウム(GaN)FETは、ルネサスのGen IVプラットフォームを使用して構築されたノーマリオフデバイスです。 最先端の高電圧GaN HEMT技術と低電圧シリコンMOSFET技術を組み合わせ、優れた信頼性と性能を提供します。
ルネサスのGaNは、ゲート電荷の低減、クロスオーバー損失の低減、逆回復電荷の低減により、シリコンに対する効率を向上させます。
このTP65H050G4QSは、ケルビンソースと共通ソースのパッケージ構成を備えた業界標準のTOLLで提供されます。
パラメータ
| 属性 | 値 | 
|---|---|
| Qualification Level | Standard | 
| Vds min (V) | 650 | 
| V(TR)DSS max (V) | 800 | 
| RDSON (Typ) (mΩ) | 50 | 
| RDSON (max) (mΩ) | 60 | 
| Vth typ (V) | 4 | 
| Id max @ 25°C (A) | 34 | 
| Qg typ (nC) | 16 | 
| Qoss (nC) | 120 | 
| Ron * Qoss (FOM) | 6000 | 
| Ciss (Typical) (pF) | 1000 | 
| Coss (Typical) (pF) | 110 | 
| trr (Typical) (nS) | 50 | 
| Mounting Type | Surface Mount | 
| Temp. Range (°C) | -55 to +150°C | 
パッケージオプション
| Pkg. Type | Pkg. Dimensions (mm) | 
|---|---|
| TOLL | 10 x 12 | 
アプリケーション
- データコム
- 幅広い産業
- PVインバーター
- サーボ モーター
適用されたフィルター
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