概要
説明
TP65H050G4YS 650V 50mΩ窒化ガリウム(GaN)FETは、ルネサスのGen IVプラットフォームを使用して構築されたノーマリオフデバイスです。 最先端の高電圧GaN HEMT技術と低電圧シリコンMOSFET技術を組み合わせ、優れた信頼性と性能を提供します。
ルネサスのGaNは、ゲート電荷の低減、クロスオーバー損失の低減、逆回復電荷の低減により、シリコンに対する効率を向上させます。
このTP65H050G4YSは、ケルビンソースと共通ソースパッケージ構成の業界標準のTO-247-4で提供されます。
特長
- Gen IVテクノロジー
- JEDEC認定のGaN技術
- 動的RDS(on)eff生産テスト済み
- ロバスト設計、以下によって定義されます。
- 広いゲート安全マージン
- 過渡過電圧機能
- 非常に低いQRR
- クロスオーバー損失の低減
- RoHS準拠およびハロゲンフリーのパッケージ
- ハードスイッチ回路とソフトスイッチ回路の両方で効率を向上
- 電力密度の向上
- システムのサイズと重量の低減
- 全体的なシステムコストの削減
- 一般的に使用されるゲートドライバーで運転が簡単
- 性能向上のためのケルビンソース
- SiおよびSiC TO-247-4によるピン間ドロップイン(注:タブはソースとドレイン)
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